Exentec 專精於半導體產業的超高純度化學品和氣體系統。我們的產品組合包括可廣泛應用於水性化學品和 CMP 漿料的混合與輸送設備。
此外，我們還提供所需的現場支援服務、控制、整合和技術專業知識，以滿足嚴格的半導體製程控制需求。
我們可靠的系統提供
- 先進的計量驅動閉環製程控制
- 自動化的化學品和漿料品質控制
- 靈活、可擴展且精確的輸送和混合系統
- 透過混合濃度和壓力控制增加製程控制
- 與 SCADA 無縫整合，並提供完整的 I&C 支援
- 最佳佔地面積
- 最長的正常運轉時間
濕長椅
我們專精於表面處理系統的設計，讓應用需求與設備性能完美結合
我們的工具整合了製程硬體、先進的控制軟體和自動化機器人，可提供從手動單一製程工作台到全自動晶圓處理系統的客制化解決方案。
我們支援廣泛的基板和材料：
- 晶圓 (100mm - 300mm)
- III-V 半導體材料
- 光罩
- 玻璃和石英夾具
- 客製歧管和特殊載具
我們的工程師也可以設計客製化的末端效應器和基板載具，以滿足您特定的製程和處理需求。
- 清洗、抗光劑帶、蝕刻、顯影、金屬剝離、IPA 回收和乾燥
- 適用於酸、鹼及溶劑應用
- 單槽或多槽尺寸
- 可配置且可擴充的製程設備。
我們的團隊擁有廣泛的應用需求經驗，包括 FEOL、BEOL、先進封裝、MEMS 圖案電鍍、磁性沉積、電蝕刻和無電沉積等工作。我們也有適用於許多應用的標準濕式製程槽配置，例如
- 濕式蝕刻 - 矽 (KOH) 蝕刻、氮化物蝕刻、緩衝氧化物蝕刻、光阻帶和金/鉑蝕刻。
- 金屬剝離 - NMP 和 DMSO 配置
- 晶圓清洗 - 支援 HF、Piranha、SC1、SC2 浴槽
我們的製程工具可配置完整的支援系統，以加強自動化、安全性和化學品管理：
- 化學品處理系統
- 用於分配、移除和儲存的化學品推車
- 用於收集廢棄物的車載容器
- 用於廢棄物中和的提升站
- 製程最佳化硬體
- 溫控循環器 (WHRV)
- 加熱：高達 5115 BTU/hr
- 冷卻: 高達 2550 BTU/hr
- 再循環槽可提供一致的溫度和流量
- 石英槽具有耐化學性
- 快速傾倒沖洗器 (QDR)
- 浸入、串聯和噴霧模式
我們的表面處理系統可擴充，隨時可整合至無塵室、研發實驗室和高容量晶圓廠。無論您使用的是標準基板或獨特材料，我們的團隊都能提供符合您需求的製程就绪平台。
泥漿系統
我們的工具整合了製程硬體、先進的控制軟體和自動化機器人，可提供從手動單一製程工作台到全自動晶圓處理系統的客制化解決方案。
我們支援廣泛的基板和材料：
- 晶圓 (100mm - 300mm)
- III-V 半導體材料
- 光罩
- 玻璃和石英夾具
- 客製歧管和特殊載具
我們的工程師也可以設計客製化的末端效應器和基板載具，以滿足您特定的製程和處理需求。
- 清洗、抗光劑帶、蝕刻、顯影、金屬剝離、IPA 回收和乾燥
- 適用於酸、鹼及溶劑應用
- 單槽或多槽尺寸
- 可配置且可擴充的製程設備。
我們的團隊擁有廣泛的應用需求經驗，包括 FEOL、BEOL、先進封裝、MEMS 圖案電鍍、磁性沉積、電蝕刻和無電沉積等工作。我們也有適用於許多應用的標準濕式製程槽配置，例如
- 濕式蝕刻 - 矽 (KOH) 蝕刻、氮化物蝕刻、緩衝氧化物蝕刻、光阻帶和金/鉑蝕刻。
- 金屬剝離 - NMP 和 DMSO 配置
- 晶圓清洗 - 支援 HF、Piranha、SC1、SC2 浴槽
我們的製程工具可配置完整的支援系統，以加強自動化、安全性和化學品管理：
- 化學品處理系統
- 用於分配、移除和儲存的化學品推車
- 用於收集廢棄物的車載容器
- 用於廢棄物中和的提升站
- 製程最佳化硬體
- 溫控循環器 (WHRV)
- 加熱：高達 5115 BTU/hr
- 冷卻: 高達 2550 BTU/hr
- 再循環槽可提供一致的溫度和流量
- 石英槽具有耐化學性
- 快速傾倒沖洗器 (QDR)
- 浸入、串聯和噴霧模式
我們的表面處理系統可擴充，隨時可整合至無塵室、研發實驗室和高容量晶圓廠。無論您使用的是標準基板或獨特材料，我們的團隊都能提供符合您需求的製程就绪平台。