露點控制解決方案
露點控制解決方案
Exentec 提供使用置換氣體的系統和解決方案，以滿足對潔淨、溫度穩定性和乾燥度的最高要求。
露點控制的系統解決方案
某些生產製程需要的不只是絕對的純度和穩定的過程參數。特別是在光學應用中，為了確保最佳的影像效果，需要消除空氣中的氧氣和水等額外的干擾影響。
不理想的氣體和水會被乾氮氣體所取代。Exyte Technology 提供的置換氣體系統和解決方案，可滿足對潔淨度、溫度穩定性和乾燥度的最高要求。
- 極度乾燥的製程環境 (- 35 °C)
- 「無氧 」製程環境
- 穩定且可重複的製程氣候化
結構性設計
- 典型應用：對濕度敏感的生產製程
- 客戶需求：非常乾燥且無氧的環境條件
- 流量：3,600 m³/h
- 製程空氣溫度：20 °C
- 溫度穩定性： ± 1K
- 系統露點：- 35°C
- 濕度：1,3 %r.H.
- 殘餘氧氣: < 0,8 %