Scarica la brochure aziendale di Exentec
PRODOTTI
Camera bianca
Soluzioni superiori e servizi completi
Sviluppiamo, produciamo e manteniamo prodotti affidabili per camere bianche e ambienti di produzione per atmosfere controllate ultra-pulite.
Mini ambienti
Nel mercato delle batterie, Exentec è pioniere di un concetto unico di Mini Environment modulare, che integra riduzione dell'energia e miglioramenti tecnologici.
Unità di trattamento dell'aria
Le unità di trattamento aria di Exentec si distinguono per il design ad alta efficienza energetica. Il nostro team di ricerca e sviluppo lavora con apparecchiature all'avanguardia e apporta sempre le conoscenze più recenti.
Sottosistemi critici e ambienti controllati
Sistemi di alimentazione di mezzi puri per prodotti sensibili
Fornitura di prodotti chimici
Sistemi di miscelazione e distribuzione di prodotti chimici e liquami ad altissima purezza
Sistemi di miscelazione e distribuzione di prodotti chimici e liquami ad altissima purezza
Ampolle e sensori
Produciamo sensori di livello per liquidi, manipolazione di sostanze chimiche piroforiche e ampolle, cilindri e taniche DOT 4B ampiamente utilizzati nell'industria dei semiconduttori, del fotovoltaico e delle batterie.
Scarico del processo
Stabiliamo lo standard industriale per i sistemi di condotti di scarico per fumi corrosivi sicuri e affidabili
Abbattimento del gas
Siamo un fornitore di riferimento per le principali aziende di semiconduttori in tutto il mondo e forniamo soluzioni di abbattimento dei gas POU (Point-of-Use) per strumenti di processo di deposizione, incisione e diffusione.
Soluzioni biofarmaceutiche
Supportiamo tutte le fasi critiche della produzione biofarmaceutica
Panche umide
Siamo specializzati nella progettazione di sistemi di preparazione delle superfici in cui i requisiti applicativi e le prestazioni delle apparecchiature si allineano perfettamente.
I nostri strumenti integrano hardware di processo, software di controllo avanzato e robotica automatizzata per fornire soluzioni personalizzate, dai banchi manuali a processo singolo ai sistemi di manipolazione dei wafer completamente automatizzati. Possiamo personalizzare i supporti per substrati e gli effettori finali per soddisfare requisiti di lavorazione unici.
Supportiamo un'ampia gamma di substrati e materiali:
- wafer (100 mm - 300 mm)
- Materiali semiconduttori III-V
- Fotomaschere
- Attrezzature in vetro e quarzo
- Manifold personalizzati e supporti speciali
I nostri ingegneri possono anche progettare dispositivi finali e supporti per substrati personalizzati per soddisfare le vostre specifiche esigenze di processo e movimentazione.
- Pulizia, strisce di resistenze, incisione, sviluppo, distacco del metallo, recupero e asciugatura IPA
- Utilizzabili per applicazioni con acidi, basi e solventi
- Dimensioni del bagno per una o più cassette
- Apparecchiature di processo configurabili e scalabili.
Il nostro team ha esperienza in un'ampia gamma di applicazioni, tra cui FEOL, BEOL, Advanced Packaging, MEMS Pattern Plating, Deposizione magnetica, Electro-Etch e Deposizione senza E. Disponiamo anche di layout di bagni standard per processi a umido per molte applicazioni, come ad esempio:
- Incisione a umido - incisione di silicio (KOH), incisione di nitruro, incisione di ossido tamponato, striscia di fotoresistenza e incisione di oro/platino.
- Sollevamento dei metalli - Configurazioni NMP e DMSO.
- Pulizia dei wafer - Supporto per i bagni HF, Piranha, SC1, SC2.
I nostri strumenti di processo possono essere configurati con una gamma completa di sistemi di supporto per migliorare l'automazione, la sicurezza e la gestione delle sostanze chimiche:
- Sistemi di manipolazione dei prodotti chimici
- Carrelli per l'erogazione, la rimozione e lo stoccaggio dei prodotti chimici
- Damigiane a bordo per la raccolta dei rifiuti
- Stazioni di sollevamento per la neutralizzazione dei rifiuti
- Hardware per l'ottimizzazione dei processi
- Circolatori a temperatura controllata (WHRV)
- Riscaldamento: fino a 5115 BTU/ora
- Raffreddamento: fino a 2550 BTU/h
- Bagni a ricircolo per una temperatura e un flusso costanti
- Serbatoi in quarzo per la resistenza chimica
- Sciacquatrici a scarico rapido (QDR)
- Modalità a immersione, a cascata e a spruzzo
I nostri sistemi di preparazione delle superfici sono scalabili e pronti per essere integrati in camere bianche, laboratori di ricerca e sviluppo e fabbriche ad alto volume. Che si tratti di substrati standard o di materiali unici, il nostro team è in grado di fornire una piattaforma pronta per il processo e adatta alle vostre esigenze.
Sistemi a fanghiglia
I nostri strumenti integrano hardware di processo, software di controllo avanzato e robotica automatizzata per fornire soluzioni personalizzate, dai banchi manuali a processo singolo ai sistemi di manipolazione dei wafer completamente automatizzati. Possiamo personalizzare i supporti per substrati e gli effettori finali per soddisfare requisiti di lavorazione unici.
Supportiamo un'ampia gamma di substrati e materiali:
- wafer (100 mm - 300 mm)
- Materiali semiconduttori III-V
- Fotomaschere
- Attrezzature in vetro e quarzo
- Collettori personalizzati e supporti speciali
I nostri ingegneri possono anche progettare dispositivi finali e supporti per substrati personalizzati per soddisfare le vostre specifiche esigenze di processo e movimentazione.
- Pulizia, strisce di resistenze, incisione, sviluppo, distacco di metalli, recupero e asciugatura IPA
- Utilizzabili per applicazioni con acidi, basi e solventi
- Dimensioni del bagno per una o più cassette
- Apparecchiature di processo configurabili e scalabili.
Il nostro team ha esperienza in un'ampia gamma di applicazioni, tra cui FEOL, BEOL, Advanced Packaging, MEMS Pattern Plating, Deposizione magnetica, Electro-Etch e Deposizione senza E. Disponiamo anche di layout di bagni standard per processi a umido per molte applicazioni, come ad esempio:
- Incisione a umido - incisione di silicio (KOH), incisione di nitruro, incisione di ossido tamponato, striscia di fotoresistenza e incisione di oro/platino.
- Sollevamento dei metalli - Configurazioni NMP e DMSO.
- Pulizia dei wafer - Supporto per bagni HF, Piranha, SC1, SC2
I nostri strumenti di processo possono essere configurati con una gamma completa di sistemi di supporto per migliorare l'automazione, la sicurezza e la gestione delle sostanze chimiche:
- Sistemi di manipolazione dei prodotti chimici
- Carrelli per l'erogazione, la rimozione e lo stoccaggio dei prodotti chimici
- Damigiane a bordo per la raccolta dei rifiuti
- Stazioni di sollevamento per la neutralizzazione dei rifiuti
- Hardware per l'ottimizzazione dei processi
- Circolatori a temperatura controllata (WHRV)
- Riscaldamento: fino a 5115 BTU/ora
- Raffreddamento: fino a 2550 BTU/h
- Bagni a ricircolo per una temperatura e un flusso costanti
- Serbatoi in quarzo per la resistenza chimica
- Sciacquatrici a scarico rapido (QDR)
- Modalità a immersione, a cascata e a spruzzo
I nostri sistemi di preparazione delle superfici sono scalabili e pronti per essere integrati in camere bianche, laboratori di ricerca e sviluppo e fabbriche ad alto volume. Che si tratti di substrati standard o di materiali unici, il nostro team è in grado di fornire una piattaforma pronta per il processo e adatta alle vostre esigenze.
