先进技术设备

创新、敏感的生产工艺、不断提高的质量标准以及研发领域的快速发展，对半导体和光学行业以及纳米技术和微机械行业的生产和研发环境提出了持续且日益严峻的挑战。

极低的温度和湿度公差、气体和微粒污染的绝对洁净度，以及对客户工艺的声学、振动和电磁影响的屏蔽，是实现最佳生产工艺的关键因素。我们的解决方案：MEC 系统（模块化环境舱）。

• 稳定且可重现的工艺环境
• 颗粒和化学污染物的沉积
• 精确的温度控制
• 声屏蔽

技术数据

性能参数

• 空气流量：2.95 m³/h
• 空气温度： 22 °C
• 温度稳定性： ± 5 mK 至 ± 1 mK
• 湿度： 33 % r.H.
• 湿度稳定性：± 0.3 % r.H.
• 声屏蔽：100 < f < 5000 Hz：-15 dB
• 磁屏蔽：10 < f < 200 Hz：-30 dB