露点控制解决方案
露点控制解决方案
Exentec 提供使用置换气体的系统和解决方案，可满足对清洁度、温度稳定性和干燥度的最高要求
露点控制的系统解决方案
某些生产工艺要求的不仅仅是绝对纯净和稳定的工艺参数。特别是在光学应用中，需要消除空气中的氧气和水等额外干扰影响，以确保获得最佳图像。
例如，用干燥的氮气来替代不需要的气体和水。Exyte Technology 提供的置换气体系统和解决方案可满足对洁净度、温度稳定性和干燥度的最高要求。
- 极度干燥的工艺环境（- 35 °C）
- "无氧 "工艺环境
- 稳定且可重复的工艺气候
建设性设计
- 典型应用：对湿度敏感的生产工艺
- 客户需求：非常干燥和无氧的环境条件
- 流量3,600 立方米/小时
- 工艺空气温度：20 °C
- 温度稳定性： ± 1K
- 系统露点：- 35°C
- 湿度： 1.3 %r.H.
- 残余氧气：< 0.8