Systèmes de slurry pour CMP | Exentec

Mélange précis du slurry et distribution maîtrisée

Les systèmes de slurry Exentec sont utilisés dans le monde entier pour leur rôle essentiel dans les procédés avancés de planarisation chimico‑mécanique (CMP). Ils sont conçus pour offrir un mélange précis, une distribution stable et une qualité constante, que ce soit en phase pilote ou en production à grand volume.
Exentec développe des systèmes de slurry et des équipements de procédé à architecture intégrée, utilisés dans les industries des semi‑conducteurs, du CMP, du solaire et des matériaux avancés. Chaque solution est pensée pour répondre aux exigences spécifiques des procédés, avec un fonctionnement fiable et des performances reproductibles.
 

Contrôle précis du mélange et du flux

Au cœur de notre technologie se trouvent notre maîtrise du mélange de slurry et notre contrôle de la distribution. Nos systèmes assurent des mélanges reproductibles et des caractéristiques d’écoulement stables vers chaque point d’utilisation. Cela contribue à maintenir les performances des matériaux, à réduire les pertes et à améliorer la disponibilité des outils CMP.

Grâce à un portefeuille de brevets et à plusieurs décennies d’expérience en ingénierie, Exentec conçoit des solutions adaptées aux complexités des procédés CMP modernes. Notre connaissance des procédés, associée à une automatisation avancée et à des efforts continus en R&D, nous permet de proposer des systèmes qui répondent aux défis actuels tout en restant évolutifs pour les besoins futurs.
 

Avantages des systèmes de slurry Exentec

• Solutions évolutives avec 1 à 8+ canaux de distribution et débits de make‑up variables
• Stabilité de pression avec faibles fluctuations pendant le mélange et la distribution
• Interventions de maintenance possibles sans interrompre la production
• Interface utilisateur simple avec surveillance en temps réel
• Rinçage et purge des cuves sans perturber les boucles de distribution