專為支援廣泛的高科技產業而設計
包括 CMP、碳化矽、LED、太陽能和光學，這些系統在小巧的佔用空間中提供了卓越的靈活性、高精度和可靠的性能。MEGA® 系統具備彈性的補給速率、即時製程監控以及可客製化的配置，最適合用於半導體製造、低固含量 CMP 應用等。
聯絡 MEGA®，為您的晶圓廠或無塵室尋找客製化配置的漿料混合與分配系統。
系統一覽：重點功能
系統一覽：重點功能
- 靈活的操作
- 支援低產量到高產量的特殊化學製程
- 可調整使用點分配壓力，以符合各種工具需求
- 可擴充與可配置的設計
- 針對特定晶圓廠和無塵室佈局量身打造的多種系統機型
- 適用於新建和改裝設施的客製化選項
- 久經考驗的可靠性
- 專為高產量製造環境而設計
- 總擁有成本低，系統效能強大
主要效益
主要效益
- 可擴充的架構支援隨生產需求成長而擴充的功能
- 相容於多種乙太網路通訊協定及傳統介面
- 可作為獨立的 PLC 系統運作，或輕鬆整合至現有的 SCADA 基礎架構中
- 備援電源、通訊和控制邏輯可改善正常運作時間和操作安全性
- 專為 CMP 晶圓廠、漿料系統以及全球迴路網路的化學品輸送所設計
選項
選項
- 備援 AC 電源供應器
- 備援通訊鏈路
- 備援可程式邏輯控制器 (PLC)，以提供故障移轉保護
適用的應用
適用的應用
- CMP 漿料配送系統（小型和大型晶圓廠）
- 全球迴路化學品供應系統
- 多點工具通訊網路
- 化學品或氣體櫃監控
- 傳統與現代工具整合的製程控制介面