CMP 泥浆混合与输送

CMP 泥浆混合与输送
消除昂贵的劳动密集型离线计量和人工流程调整
半导体工厂对一些关键工艺参数的上下限控制(UCL / LCL)越来越严格。这些参数包括特定浓度的相关功能,以及与特定关键化学作用的 CMP 泥浆混合和分配操作相关的许多其他功能。
为实现这一目标,计量学取得了重大进展,其领域和原理各不相同;但目前许多计量学仅为离线测量或验证,用于满足这些控制限值所要求的精度和准确度。
为了消除对离线仪器的需求,Exentec 在化学机械抛光表征方面有一套行之有效的做法,可以使用各种计量设备或这些设备的组合,实现同类最佳的在线计量驱动控制,并达到最高的精度水平。
Exentec 可以使用这种仪器组合来实现实时在线结果,这些结果已被证明达到或超过了许多离线方法的水平。
优势
- 更高的混合精度和实时控制
- 最长的正常运行时间
- 全自动系统
- 拥有成本低
- 灵活、用户友好的人机界面
- 系统和/或组件冗余,最大限度地延长生产正常运行时间
- 自动系统冲洗
- 节省空间的设计
- 全混合配置和操作