Sprzęt wspomagający procesy mokre

Nasze narzędzia integrują sprzęt procesowy, zaawansowane oprogramowanie sterujące i zautomatyzowaną robotykę, aby dostarczać niestandardowe rozwiązania, od ręcznych pojedynczych stanowisk procesowych po w pełni zautomatyzowane systemy obsługi płytek.

Możemy dostosować nośniki substratów i efektory końcowe do unikalnych wymagań przetwarzania. Obsługujemy szeroką gamę podłoży i materiałów:

• Wafle (100 mm - 300 mm)
• Materiały półprzewodnikowe III-V
• Fotomaski
• Mocowania szklane i kwarcowe
• Niestandardowe rozdzielacze i specjalne nośniki

Nasi inżynierowie mogą również zaprojektować niestandardowe efektory końcowe i nośniki substratów, aby spełnić określone potrzeby związane z procesem i obsługą.

• Czyszczenie, paski oporowe, trawienie, wywoływanie, usuwanie metalu, odzyskiwanie IPA i suszenie
• Możliwość zastosowania w aplikacjach kwasowych, zasadowych i rozpuszczalnikowych
• Pojedyncze lub wielokasetowe rozmiary wanien

Konfigurowalny i skalowalny sprzęt procesowy

Nasz zespół ma doświadczenie w szerokim zakresie zastosowań, w tym w FEOL, BEOL, Advanced Packaging, MEMS Pattern Plating, Magnetic Deposition, Electro-Etch i E-less Deposition. Dysponujemy również standardowymi układami wanien do procesów mokrych dla wielu zastosowań, takich jak:

• Trawienie na mokro - trawienie krzemu (KOH), trawienie azotków, buforowane trawienie tlenków, paski fotorezystu i trawienie złota/platyny.
• Metal Lift-Off - konfiguracje NMP i DMSO
• Wafer Clean - wsparcie dla kąpieli HF, Piranha, SC1, SC2

Nasze narzędzia procesowe można skonfigurować z pełną gamą systemów wsparcia w celu zwiększenia automatyzacji, bezpieczeństwa i zarządzania chemikaliami:

• Systemy obsługi chemikaliów
• Wózki na chemikalia do dozowania, usuwania i przechowywania
• Karnistry pokładowe do zbierania odpadów
• Stacje podnoszenia do neutralizacji odpadów
• Sprzęt do optymalizacji procesów
• Cyrkulatory z regulacją temperatury (WHRV)
• Ogrzewanie: do 5115 BTU/godz.
• Chłodzenie: do 2550 BTU/godz.
• Wanny recyrkulacyjne zapewniające stałą temperaturę i przepływ
• Zbiorniki kwarcowe zapewniające odporność chemiczną
• Płukarki Quick Dump (QDR)
• Tryby zanurzeniowy, kaskadowy i natryskowy

Systemy przygotowania powierzchni Exentec są skalowalne i gotowe do integracji z pomieszczeniami czystymi, laboratoriami badawczo-rozwojowymi i wysokonakładowymi fabrykami. Niezależnie od tego, czy pracujesz ze standardowymi podłożami, czy unikalnymi materiałami, nasz zespół może dostarczyć gotową do procesu platformę dostosowaną do Twoich potrzeb.