
MEGA 攪拌系統
適用於高純度製程應用的精密化學品混合系統。
專為傳統和新一代應用而設計
這些系統專為滿足半導體製造 CMP 應用及其他高純度化學製程的嚴格要求而設計,可支援多種混合比率與補充率,是傳統與新一代應用的理想選擇。
MEGA® 攪拌系統的設計具有完全的可靠性和可重複性,可提供自動控制、智慧型監控以及可客製化的儲槽容量,以滿足各種製程環境的特定需求。

功能豐富的工程設計
功能豐富的工程設計
- 針對各種比例和化學品提供精確的混合支援
- 總混合容量從 30 公升到 500 公升不等,視系統配置而定
- 原料和混合回路的自動沖洗、吹掃和排放,以達到最高的清潔度
- 氣泡式加濕器為混合槽提供氮氣 (N₂) 毯,以保護純度
- 手動取樣口可驗證混合品質

將效能效益最大化
將效能效益最大化
- 用於安全和製程控制的排氣監測
- 手動衰減閥門可控制傳輸迴路回線的背壓
- 手動隔離、旁路、排水和脫氣功能,可加強過濾器控制
- 電容式桶空感測器可提供不中斷的材料供應
- 壓力傳感器可即時監控原料供應壓力

多設施應用
多設施應用
- 半導體晶圓製造
- 化學機械平坦化 (CMP)
- 光電與微電子製造
- 精密塗層與先進材料研發

功能豐富的工程設計
功能豐富的工程設計
- 針對各種比例和化學品提供精確的混合支援
- 總混合容量從 30 公升到 500 公升不等,視系統配置而定
- 原料和混合回路的自動沖洗、吹掃和排放,以達到最高的清潔度
- 氣泡式加濕器為混合槽提供氮氣 (N₂) 毯,以保護純度
- 手動取樣口可驗證混合品質

將效能效益最大化
將效能效益最大化
- 用於安全和製程控制的排氣監測
- 手動衰減閥門可控制傳輸迴路回線的背壓
- 手動隔離、旁路、排水和脫氣功能,可加強過濾器控制
- 電容式桶空感測器可提供不中斷的材料供應
- 壓力傳感器可即時監控原料供應壓力

多設施應用
多設施應用
- 半導體晶圓製造
- 化學機械平坦化 (CMP)
- 光電與微電子製造
- 精密塗層與先進材料研發

功能豐富的工程設計
功能豐富的工程設計
- 針對各種比例和化學品提供精確的混合支援
- 總混合容量從 30 公升到 500 公升不等,視系統配置而定
- 原料和混合回路的自動沖洗、吹掃和排放,以達到最高的清潔度
- 氣泡式加濕器為混合槽提供氮氣 (N₂) 毯,以保護純度
- 手動取樣口可驗證混合品質

將效能效益最大化
將效能效益最大化
- 用於安全和製程控制的排氣監測
- 手動衰減閥門可控制傳輸迴路回線的背壓
- 手動隔離、旁路、排水和脫氣功能,可加強過濾器控制
- 電容式桶空感測器可提供不中斷的材料供應
- 壓力傳感器可即時監控原料供應壓力

多設施應用
多設施應用
- 半導體晶圓製造
- 化學機械平坦化 (CMP)
- 光電與微電子製造
- 精密塗層與先進材料研發