Ondersteunende apparatuur voor natte processen

Onze tools integreren proceshardware, geavanceerde besturingssoftware en geautomatiseerde robotica om oplossingen op maat te leveren, van handmatige enkelvoudige procestafels tot volledig geautomatiseerde waferhandlingsystemen.

We kunnen substraatdragers en eindeffectoren aanpassen aan unieke verwerkingseisen. We ondersteunen een breed scala aan substraten en materialen:

• Wafers (100mm - 300mm)
• III-V halfgeleidermaterialen
• Fotomask
• Glazen en kwartsinrichtingen
• Aangepaste spruitstukken en speciale dragers

Onze ingenieurs kunnen ook aangepaste eindeffectors en substraatdragers ontwerpen om te voldoen aan uw specifieke proces- en behandelingsbehoeften.

• Reinigen, weerstandstrips, etsen, ontwikkelen, metaal verwijderen, IPA-herstel en drogen
• Bruikbaar voor zuur-, base- en solventtoepassingen
• Badafmetingen voor één of meerdere cassettes

Configureerbare en schaalbare procesapparatuur

Ons team heeft ervaring met een breed scala aan toepassingen, waaronder FEOL, BEOL, Advanced Packaging, MEMS Pattern Plating, Magnetic Deposition, Electro-Etch en E-less Deposition. We hebben ook standaard lay-outs voor natte procesbaden beschikbaar voor vele toepassingen, zoals:

• Nat etsen - Silicium (KOH) etsen, nitride etsen, gebufferde oxide etsen, fotoresistestrook en goud/platina etsen.
• Metaal verwijderen - NMP- en DMSO-configuraties
• Wafer clean - Ondersteuning voor HF-, Piranha-, SC1- en SC2-baden.

Onze procesgereedschappen kunnen worden geconfigureerd met een complete reeks ondersteuningssystemen om automatisering, veiligheid en chemisch beheer te verbeteren:

• Systemen voor chemische verwerking
• Chemicaliënkarren voor afgifte, verwijdering en opslag
• Flessen aan boord voor afvalverzameling
• Liftstations voor afvalneutralisatie
• Hardware voor procesoptimalisatie
• Temperatuurgeregelde circulatiepompen (WHRV)
• Verwarming: tot 5115 BTU/uur
• Koeling: tot 2550 BTU/uur
• Recirculatiebaden voor consistente temperatuur en debiet
• Kwartsbaden voor chemische weerstand
• Snelkiepspoelers (QDR)
• Modi voor onderdompeling, cascade en sproeien

De oppervlaktevoorbereidingssystemen van Exentec zijn schaalbaar en klaar voor integratie in cleanrooms, R&D labs en hoog-volume fabs. Of u nu werkt met standaard substraten of unieke materialen, ons team kan een procesklaar platform leveren dat op maat gemaakt is voor uw behoeften.