Ausrüstung zur Unterstützung des Nassverfahrens

Unsere Werkzeuge integrieren Prozesshardware, fortschrittliche Steuerungssoftware und automatisierte Robotertechnik, um kundenspezifische Lösungen von manuellen Einzelprozessbänken bis hin zu vollautomatischen Waferhandlingsystemen zu liefern.

Wir können Substratträger und Endeffektoren individuell anpassen, um spezielle Verarbeitungsanforderungen zu erfüllen. Wir unterstützen eine breite Palette von Substraten und Materialien:

• Wafer (100mm - 300mm)
• III-V-Halbleitermaterialien
• Fotomasken
• Glas- und Quarzbefestigungen
• Kundenspezifische Manifolds und Spezialträger

Unsere Ingenieure können auch kundenspezifische Endeffektoren und Substratträger entwerfen, um Ihre spezifischen Prozess- und Handhabungsanforderungen zu erfüllen.

• Reinigung, Resiststreifen, Ätzen, Entwicklung, Metallabhebung, IPA-Rückgewinnung und Trocknung
• Verwendbar für Säure-, Basen- und Lösungsmittelanwendungen
• Badgrößen für eine oder mehrere Kassetten

Konfigurierbare und skalierbare Prozessausrüstung

Unser Team hat Erfahrung mit einem breiten Spektrum von Anwendungen, darunter FEOL, BEOL, Advanced Packaging, MEMS Pattern Plating, Magnetic Deposition, Electro-Etch und E-less Deposition. Wir verfügen auch über Standard-Nassprozessbad-Layouts für viele Anwendungen wie z. B.:

• Nassätzen - Ätzen von Silizium (KOH), Nitrid, gepuffertem Oxid, Photoresiststreifen und Gold/Platin.
• Metallabhebung - NMP- und DMSO-Konfigurationen
• Waferreinigung - Unterstützung für HF-, Piranha-, SC1- und SC2-Bäder

Unsere Prozesswerkzeuge können mit einer ganzen Reihe von Unterstützungssystemen konfiguriert werden, um die Automatisierung, die Sicherheit und das Chemikalienmanagement zu verbessern:

• Chemikalien-Handhabungssysteme
• Chemikalienwagen für Dosierung, Entnahme und Lagerung
• Onboard-Carboys für die Abfallsammlung
• Hebestationen für die Abfallneutralisierung
• Hardware zur Prozessoptimierung
• Temperaturgesteuerte Umwälzpumpen (WHRV)
• Heizung: bis zu 5115 BTU/Std.
• Kühlen: bis zu 2550 BTU/Std.
• Umwälzbäder für konstante Temperatur und Durchfluss
• Quarzbehälter für chemische Beständigkeit
• Schnellablass-Spüler (QDR)
• Eintauch-, Kaskaden- und Sprühmodus

Die Oberflächenvorbereitungssysteme von Exentec sind skalierbar und für die Integration in Reinräume, F&E-Labors und hochvolumige Fabriken geeignet. Ganz gleich, ob Sie mit Standardsubstraten oder einzigartigen Materialien arbeiten, unser Team kann Ihnen eine auf Ihre Bedürfnisse zugeschnittene prozessfertige Plattform liefern.