Halvlederfabrikker har stadig strammere øvre og nedre kontrolgrænser (UCL/LCL) for en række kritiske procesparametre. Disse parametre omfatter koncentrationsspecifikke relaterede funktioner og mange andre, som er forbundet med CMP-slurryblanding og distribution af en given kritisk kemisk handling.

For at opnå dette har der været store fremskridt inden for metrologi, der varierer i områder og principper; men mange er i dag kun offline-målinger eller verifikationer, som bruges til at opfylde den krævede præcision og nøjagtighed for disse kontrolgrænser.

For at eliminere behovet for offline-instrumenter har Exentec en gennemprøvet praksis for karakterisering af kemisk mekanisk polering, hvor det er muligt at bruge forskellige metrologiske enheder eller kombinationer af disse enheder for at opnå klassens bedste in-line metrologidrevne kontrol med den højeste grad af præcision.

Exentec kan bruge denne kombination af instrumenter til at opnå online-resultater i realtid, som har vist sig at opfylde eller overgå de niveauer, der ses ved mange offline-metoder.

Fordele og fordele

• Højere blandingsnøjagtighed og kontrol i realtid
• Maksimal oppetid
• Fuldt automatiseret system
• Lave ejeromkostninger
• Fleksibel og brugervenlig HMI
• System- og/eller komponentredundans for at maksimere produktionens oppetid
• Automatiseret gennemskylning af systemet
• Pladseffektivt design
• Fuld konfiguration og håndtering af blandinger