Modernste Forschungsinfrastruktur für Halbleiter

Projektübersicht

Das Projekt unterstützte eine der weltweit fortschrittlichsten Halbleiterforschungsinitiativen und umfasste die für die EUV-Lithografie-Technologie mit hoher numerischer Apertur (High-NA) erforderliche Infrastruktur. Exentec lieferte Gasversorgungssysteme, Chemikaliensysteme, Abflussanlagen und die mechanische Prozessinfrastruktur für eine hochspezialisierte Reinraumumgebung. Eine umfassende VDC-Planung und Baubarkeitsanalyse ermöglichten die erfolgreiche Umsetzung auf einem komplexen, aktiven Forschungscampus, der gerade erheblich erweitert wurde.

Die Herausforderung

Eine führende Halbleiterforschungsorganisation benötigte die Installation hochspezialisierter Prozessversorgungs- und mechanischer Infrastruktur zur Unterstützung einer Halbleiterforschungseinrichtung der nächsten Generation. Das Projekt erforderte die Integration komplexer Großgassysteme, Chemikaliensysteme, Entwässerungssysteme und Prozessversorgungssysteme innerhalb eines aktiven Forschungscampus unter Aufrechterhaltung des laufenden Betriebs und in Abstimmung mit zahlreichen Beteiligten, Auftragnehmern und parallel laufenden Erweiterungsprojekten.

Die Lösung von Exentec

Exentec nutzte fortschrittliche Verfahren des virtuellen Entwurfs und der virtuellen Bauausführung (Virtual Design and Construction, VDC), die Koordination der Beteiligten sowie spezialisiertes Fachwissen im Halbleiterbereich, um den mechanischen Prozessumfang des Projekts zu realisieren. In einer laufenden Halbleiterforschungsumgebung arbeitete das Team eng mit der Projektleitung und verschiedenen Gewerken zusammen, um die prozessmechanischen Systeme, Großgas-, Chemikalien- und Versorgungssysteme sicher und effizient zu installieren und dabei anspruchsvolle technische und terminliche Anforderungen zu erfüllen.

Die Ergebnisse

Exentec hat erfolgreich eine kritische Infrastruktur bereitgestellt, die die fortschrittliche Halbleiterforschung und Lithografie-Kapazitäten der nächsten Generation unterstützt. Durch detaillierte Planung, technisches Fachwissen und interdisziplinäre Koordination wurde im Rahmen des Projekts die Übereinstimmung mit den Anforderungen an die Anlage gewährleistet und gleichzeitig eines der wichtigsten Halbleiter-Innovationsprogramme in den Vereinigten Staaten unterstützt. Die fertiggestellte Infrastruktur bildet die Grundlage für zukünftige Aktivitäten in der Halbleiterprozessentwicklung und -forschung.