无与伦比的性能，满足不断变化的研发需求
无论您是在开发下一代节点，还是在微调蚀刻和清洗配方，Aeris® 自动化湿式工作台都能与创新同步。从基底清洁到酸/碱蚀刻，该湿式工作台都能胜任。应用：
- 工艺开发
- 材料评估
- 表面处理
- 蚀刻后清洁
可用的配置包括全封闭、半自动和可定制的基底面，以适应您的实验室布局和工作流程。
该系统基于 PC 的控制界面可持续监控晶圆在不同工艺槽中的进程，从而通过监控每个工艺的完成时间和自动将晶圆输送到连续的工艺槽中，最大限度地提高整体晶圆吞吐量。每个晶圆批次都有一个批次 ID 代码，工艺配方通过内置的 Windows PC 控制系统自动下载到中央处理器。数据库和监控系统可通过 SECS II 接口连接到企业系统，进行实时监控和数据记录。
Aeris® 自动化湿式工作台：适用于两个或多个工艺浴
Aeris 自动化湿式工作台专为带有两个或多个工艺容器的工艺而设计。传送系统既可设置为前后或左右线性配置，也可设置为三轴系统，从而以较小的占地面积实现更复杂的槽间传送。传送系统可容纳最大 200 毫米的单晶圆盒或双晶圆盒，也可容纳单个 300 毫米的晶圆盒。控制系统包括 PLC 和彩色触摸屏界面 (HMI)。PLC 具有多级密码保护功能，可储存多个工艺配方，而 HMI 具有多个屏幕，可显示维护、配方设置、槽设置、操作和报警状态。
系统概览：重点功能
- 灵活配置，支持任何湿化学品应用
- 支持单晶圆和批量处理
- 100 毫米至 300 毫米晶圆以及定制基底
- 线性或多轴机器人配置
- 多种装载/卸载配置
- 开放或全封闭环境选项
- 浴槽再循环/过滤
- 加热、冷却或常温应用
- 大型超声波和/或超声波槽
- 化学监测/计量选项
- 浓度、电导率、pH 值、温度、粒子数等
- 批量分配或机载分配
- 水浴添加 - 过氧化氢、D.I.水和其他添加剂
- 表面张力梯度干燥
- miSCADA 控制 - 集成 PLC、Modbus、OPC/OPC UA 服务器、MQTT 和 SECS/GEM
选项
- 经 FM 4910 认证的建筑材料。
- FM 认证的 CO2 火灾探测和灭火系统
- SEMI 和 CE 标识或其他 NRTL 第三方测试和认证
- HEPA/ULPA 空气过滤系统
- 照明设备
- 可联网的 Windows PC
- 可提供 SECS/GEM 或资产管理类软件
Aeris 自动湿台
Aeris® 自动湿式工作台的设计紧跟创新步伐。从基底清洁到酸/碱蚀刻，该湿式工作台可提供无与伦比的性能，满足不断变化的研发需求。