Nasze narzędzia integrują sprzęt procesowy, zaawansowane oprogramowanie sterujące i zautomatyzowaną robotykę, aby dostarczać niestandardowe rozwiązania, od ręcznych pojedynczych stanowisk procesowych po w pełni zautomatyzowane systemy obsługi płytek. Możemy dostosować nośniki substratów i efektory końcowe, aby spełnić unikalne wymagania przetwarzania.

Obsługujemy szeroką gamę podłoży i materiałów:

Wafle (100 mm - 300 mm)
Materiały półprzewodnikowe III-V
Fotomaski
Mocowania szklane i kwarcowe
Niestandardowe rozdzielacze i specjalne nośniki

Nasi inżynierowie mogą również zaprojektować niestandardowe efektory końcowe i nośniki substratów, aby spełnić określone potrzeby związane z procesem i obsługą.

Czyszczenie, paski oporowe, trawienie, wywoływanie, usuwanie metalu, odzyskiwanie IPA i suszenie
Możliwość zastosowania w aplikacjach kwasowych, zasadowych i rozpuszczalnikowych
Pojedyncze lub wielokasetowe rozmiary wanien
Konfigurowalny i skalowalny sprzęt procesowy.

Nasz zespół ma doświadczenie w szerokim zakresie zastosowań, w tym w FEOL, BEOL, Advanced Packaging, MEMS Pattern Plating, Magnetic Deposition, Electro-Etch i E-less Deposition. Dysponujemy również standardowymi układami kąpieli do procesów mokrych dla wielu zastosowań, takich jak:

Trawienie na mokro - trawienie krzemu (KOH), trawienie azotków, buforowane trawienie tlenków, paski fotorezystu i trawienie złota/platyny.
Metal Lift-Off - konfiguracje NMP i DMSO
Wafer Clean - wsparcie dla kąpieli HF, Piranha, SC1, SC2

Nasze narzędzia procesowe można skonfigurować z pełną gamą systemów wsparcia w celu zwiększenia automatyzacji, bezpieczeństwa i zarządzania chemikaliami:

Systemy obsługi chemikaliów
Wózki na chemikalia do dozowania, usuwania i przechowywania
Wbudowane karnistry do zbierania odpadów
Stacje podnoszenia do neutralizacji odpadów
Sprzęt do optymalizacji procesów
Cyrkulatory z regulacją temperatury (WHRV)
Ogrzewanie: do 5115 BTU/godz.
Chłodzenie: do 2550 BTU/godz.
Wanny recyrkulacyjne zapewniające stałą temperaturę i przepływ
Zbiorniki kwarcowe zapewniające odporność chemiczną
Płukarki Quick Dump (QDR)
Tryby zanurzeniowy, kaskadowy i natryskowy

Nasze systemy przygotowania powierzchni są skalowalne i gotowe do integracji z pomieszczeniami czystymi, laboratoriami badawczo-rozwojowymi i wysokonakładowymi fabrykami. Niezależnie od tego, czy pracujesz ze standardowymi podłożami, czy unikalnymi materiałami, nasz zespół może dostarczyć gotową do procesu platformę dostosowaną do Twoich potrzeb.